4/22上海场 先进制程TEM材料分析研讨会

4/22上海场 先进制程TEM材料分析研讨会

 

 
4/22上海场 先进制程TEM材料分析研讨会
 
 

先进制程的开发是否到位,材料的结构与元素分析能力往往是关键,尤其当制程进入28纳米以下世代,纳米元件尺寸不断微缩,各端连接线结构极为细致,在此细微结构下,往往会因材料表面与微结构的污染或缺陷,使得其物性、电性及化性起变化,干扰原先产品的设计与特性。

然而许多传统分析方法,并不能有效的解决先进制程材料所带来的失效问题。此时可达原子级解析度、且兼具化学成分分析功能的穿透式电子显微镜(TEM),将是分析上的唯一解決方案。

TEM除了可应用在半导体先进制程材料分析外,在LED产业亦扮演重要角色。决定LED发光特性最关键的磊晶制程,就必须高度仰赖TEM来控制制程参数。然而TEM的原理及操作模式相当复杂,分析时往往令非本行业出身的人员感到头痛,透过本次研讨会专家的解说,期望让与会来宾与业界精英能从中学习到:

 
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如何更加正确地理解TEM原理,解读TEM数据?
4/22上海场 先进制程TEM材料分析研讨会
如何更加有效地利用TEM/STEM分析,来解决材料或制程上的问题?
 
时 间
內 容
主讲人
13:00-13:30
报 到
13:30-14:40
TEM基本原理介紹
TEM基本功能介绍与数据解读
TEM主要应用模式介绍
iST宜特科技 材料分析工程部经理
陈聲宇 博士
14:40-15:00
中场休息
15:00-16:10
新颖TEM应用与案例解析
先进半导体制程与结构分析
三五族半导体(LED,砷化镓)分析
逆向工程分析
iST宜特科技 材料分析工程部经理
陈聲宇 博士
16:10-16:30
Q&A
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讲师简介
陈聲宇 博士
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现任职:
iST宜特科技 材料分析工程部经理
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经历:
毕业于国立清华大学,曾任职于台积电(TSMC)研究发展处,现为宜特科技材料分析工程部经理,从事TEM相关研究超过7年,论文发表遍及《ACS nano》及《Nano letter》等知名国际期刊。
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报名信息
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参加对象:
半导体厂RD/PE/FA/QA人员、IC设计公司FA或逆向工程人员、LED磊晶或模组厂人员
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研讨会时间:
2015年4月22日(星期三)
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研讨会地点:
上海博雅酒店(上海市浦东新区碧波路699号)
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洽询专线:

iST宜特业务窗口
 
+86-21-61910691 分机 2280 何小姐
Email: sisy@isti.com.cn
iST宜特报名窗口
+86-512-5763-9600 分机 6502 方小姐
Email: is@isti.com.cn
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报名方式:
请点选此处进行在线报名。
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参加费用:
即日起额满为止,欲报从速。(一间公司限2名,报名成功确认以主办单位回复为主)
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注意事项
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主办单位保留报名资格之最后审核权利,并于活动前一周以E-mail寄发「课前通知」,以示您的参加资格。请于活动开始前进行报到。
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未能准时报到或当天无法出席的学员,恕无法为您保留讲义与座位。
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若因不可预测的突发因素,主办单位保留变更论坛时间、议程内容及相关事项之权利。
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现场报名的学员,主办单位视现场状况保有开放进场与否之权利。
 
主办单位:
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