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发表于 2012-8-29 01:39:03
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图镀孔铜厚度与残铜率变化规律的研究
图镀孔铜厚度与残铜率变化规律的研究
StudyontheRulesbetweentheThicknessofPlatedCopperinHolesandinthePatternAreas
图镀孔铜厚度与残铜率变化规律的研究
田玲广州市兴森电子有限公司
作者简介:田玲,硕士,2005年毕业于厦门大学。毕业后加入广州市兴森电子有限公司工艺部,现为工艺部研发工程师。
摘要:本文针对PCB图镀生产中图形分布不均而导致孔铜厚度难以控制的问题,通过设计试验菲林、确定残铜率选取方法和切片分析,首次完成图镀孔铜厚度与残铜率之间变化规律的研究.该研究结果对于图形分布不均(残铜率不同)导致的孔铜厚度问题有重大的指导意义。
关键词:残铜率;图镀;孤立孔
Abstract:Thispaperaimsattheproblemofrebelliousthicknessofplating.copperinholeduringthepattemplatingprOCeSS,viathedesignofpattern,thevalidationoftheselectmethodofpattem’Sareas,andtheanalysisofMicrosection,forthefirsttime.山ernlebetweenthicknessofplating.copperinholeandpattern’s.easwasfoundout.AndtherulewillbegreatsignificancetosoNetheproblemthatthethicknessofpatternplating.copperinholechangesmuchfollowing山edifferenceofthepattern’Sareas.
Keywords:pattern’Sareas;patternplating;isolatedhole;
1.前言
在PCB图形电镀生产中,由于铜面图形分布不均(残铜率不同)而导致局部孔铜厚度差异较大,一直以来都是一个难以控制的问题。通常,采用调整镀液成分、降低电流密度以及改进电镀缸的机械设计等方法可以调整大区域电镀的均匀性,但是对于局部区域孔铜的改善比较困难。从电镀原理分析,电力线的分布是导致孔铜厚度差异的根本原因。所谓的电力线,就是带电粒子所形成的假想行进路线。对于电镀而言,影响这些假想路线分布的因素一般包括:阳极配置方式、阴阳极的距离、电路板悬挂方式、药液搅拌、电路板摇摆、电流密度高低、光泽系统种类、遮蔽系统设计等等。而在这些客观因素都确定的条件下,由于设计铜面图形分布的不规则,电力线必然产生相互排斥的现象,从而导致电力线分布不均,造成孔周围不同残铜率的孔镀层厚度不均匀。本文通过设计试验菲林、确定残铜率选取方法和切片分析,完成了残铜率与图镀孔铜厚度之间变化规律的研究,对于图形分布不均(残铜率不同)导致的孔铜厚度问题有重大的指导意义。 |
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